形象的™抛光垫

用于化学机械平整(CMP)的Ikonic™衬垫系列是一种突破性的衬垫平台,设计用于多种应用和高级节点. 365体育彩票平台最新的CMP抛光垫技术结合了一系列的抛光垫硬度和不同程度的孔隙度,使抛光垫表面易于调整. Ikonic™衬垫平台旨在改善晶圆缺陷性能和提高去除率, 地形和拥有成本.

  • Ikonic™9000系列抛光垫适用于要求较高硬度的抛光垫. 它的设计目的是在提高缺陷性能和在最先进的逻辑和内存技术节点上保持或增加去除率之间提供一个极好的折衷方案.

    好处:

    • 在保持去除率的同时提高缺陷性能的最佳可用平衡
    • 与传统的解决方案相比,即使在较低的条件下,垫的寿命也具有优异的稳定性.

    应用程序:

    •  层间介质(ILD),铜体,钨

  • Ikonic™4300系列抛光垫适用于要求较高硬度的抛光垫. 它是为要求更高平面化和改进缺陷性能的过程而设计的.

    好处:

    • 较高的整平效率
    • 改善defectivity性能

    应用程序:

    • STI /二氧化铈、氧化

  • Ikonic™4200系列抛光垫适用于要求较高硬度的抛光垫. 它是为更高的去除率而设计的, 通过提供更高的吞吐量和/或减少泥浆消耗量,可以帮助客户降低拥有成本.

    好处:

    • 较高的去除率
    • 易于调节的垫面

    应用程序:

    • STI/ceria,钨,铜散装

  • Ikonic™4100系列抛光垫适用于要求较高硬度的抛光垫. 它的设计目的是在最先进的逻辑和内存技术节点中显著提高缺陷性能.

    好处:

    • 失步defectivity性能
    • 改进了与衬垫寿命中缺陷和去除率稳定性相关的权衡平衡
    • 易于调节的垫面

    应用程序:

    • 浅沟槽隔离(STI)/二氧化铈,层间介电(ILD),铜体,钨

  • Ikonic™3000系列抛光垫适用于中等硬度的抛光垫. 与IC1000™衬垫相比,它的设计目的是在晶圆缺陷性能和地形性能方面实现步进改进.

    好处:

    • 改善defectivity性能
    • 地形的性能改善
    • 多个配置选项
    • 长垫一生
    • 易于调节的垫面

    应用程序:

    • 铜散装

  • Ikonic™2000系列抛光垫适用于要求较低硬度的抛光垫. 它的设计目的是在晶圆缺陷性能方面提供逐步改进, 一致和稳定的去除率, 更长的衬垫寿命.

    好处:

    • 失步defectivity性能
    • 多个产品,以满足一系列的性能需求
    • 长垫一生
    • 易于调节的垫面

    应用程序:

    • 铜障碍,浅黄色

 
 
 
其他CMP应用程序

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